扫一扫，手机浏览- 半自动晶圆腐蚀清洗湿台
详细信息
加工定制：是 品牌：科圣达 类型：机械臂式 适用领域：电子行业 用途：工业用 槽数：5 型号：KSD-JYQX 超声清洗频率：28KHZ 40KHZ 清洗温度：65 ℃ 工作方式：超声波震动+上下抛动 外形尺寸：L800XW200XH280cm cm 功率：60KW 半自动晶圆腐蚀清洗湿台是晶圆蚀刻清洁系统,满足晶片、光掩模和基板蚀刻清洗特定工艺需求。
非常适合蚀刻和清洁从小直径到超大直径的各种尺寸的晶片、光掩模和基板。晶圆蚀刻清洗机CESx可配置多个过程分配选项，从用于DI-H2O或化学的Megasonic喷嘴；用于化学配药的低压喷嘴；化学和DI-H2O加热器；用于表面搅拌以加速反应的刷子和/或DI-H2O；还有更多。
半自动晶圆腐蚀清洗湿台可编程抛物线臂运动有助于确保均匀蚀刻。快速有效的干燥技术结合了可变的旋转速度；可选加热的DI-H2O；和氮辅助。非常安全，具有“冲洗至pH”功能，可在接触基质之前去除腔室内的任何化学物质。
适合直径不超过9x9英寸/300mm直径的基片
半自动晶圆腐蚀清洗湿台具有无刷伺服电机的主轴组件用于精确的速度控制和分度。
摆动式分配臂，速度可调&行程位置&可编程抛物线行程。
径向排气室，*大层流在盖的顶部与N2进料一起流动。
半自动晶圆腐蚀清洗湿台用于清洁和干燥辅助的DI-H2O加热器。
符合FM4910的PVDF工艺室，含PTFE涂层不锈钢表面&独立聚丙烯机柜，不锈钢内部带泄漏的框架和集成二次安全壳侦查
微处理器控制，能够保持三十（30）个食谱在内存中有三十（30）个步骤。
用清水冲洗至整个工艺区域和基材的pH值联锁装置禁止进入工艺区和控制区排水和主轴速度，直到安全。
按钮盖打开/关闭。
半自动晶圆腐蚀清洗湿台触摸屏图形用户界面（GUI），易于操作带有屏幕错误的编程和安全锁定报告。
用于化学品和室内排水的排水分流器。
设计符合SEMI S2/S8指南，占地面积小，宽28英寸，深24英寸，包括：集成式DI H2O加热器；化学品储存二级安全壳。面向所有人的前台服务访问组件。尺寸不包括后面板设施和连接
半自动晶圆腐蚀清洗湿台特点：
由腐蚀和清洗两部分组成，包括设备主体、腐蚀槽、PID恒温系统、PLC工控系统、清洗槽、兆声清洗及快排系统等部分。
腐蚀液槽外循环，槽内均匀喷射的流体模式，腐蚀反应均匀性更好。
槽内直接测温，直接加热的方式，温度反应更灵敏，腐蚀温度更均匀。
半自动晶圆腐蚀清洗湿台自动程序喷淋清洗，兆声助洗，硅片清洗效果更好
所有程序可设定运行，更***，***，更省时省力。
尺寸可定制：3吋、4吋、5吋、6吋、8吋、10吋
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深圳市科圣达超声波自动化设备有限公司咨询热线 13823746941 
半自动晶圆腐蚀清洗湿台
产业带货源页面价格仅供参考，具体请联系报价起批量 价格 - ≧1 台
￥300000.00
- 产品型号：KSD-JYQX
- 品 牌：科圣达
- 所 在 地：广东深圳宝安区
- 更新日期：2024-04-30
选择 1台起售 ￥300000.00 库存充足 -+合计：1台总价：300000.00元（联系我时，请说明是从谷瀑网看到的，谢谢！）店内推荐产品
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